SEM
FE-SEM 場發射掃描式電子顯微鏡【FE-SEM; Hitachi S4800-I】
技術人員：邱昱超 同學 （05）2720411 轉 33499
E-mail：sre19638030@gmail.com
指導教授：李元堯 博士 （05）2720411 轉 33403
儀器概述：
Hitachi S4800-I：
加速電壓：0.1~30 KV；放大倍率：30~800,000X；發射源：冷陰極電子槍；試片尺寸：100 mm diameter；二次電子解析度：1.0nm(at 15kV) or 2.0nm(at 1kV)。
服務項目：
1. SEI （Scanning Electron Image）： 材料表面結構觀察，破斷面觀察，薄膜鍍層觀察。
2. 具STEM附加功能(穿透電子偵測器)。
3. 表面前處理：鍍金機(磁控式)目前可鍍靶材有白金。
4. 表面能階分析（EDS）：特定位置表面材料成分電子能階光譜分析，用以判斷表面材料或污染的組成。(預計於2005年添購)
影像儲存注意事項：
1.可使用USB隨身碟儲存資料，請自備。
2.可自行上傳個人雲端
3.影像資料會儲存在電腦裡兩星期，如資料有問題請來電或E-mail告知。
取樣應注事意項：
使用FT-SEM的注意事項
1. 高分子、生物試片和強磁性物質嚴禁進入FE-SEM腔體。
2. 粉體物質 需先經表面前處理後，黏牢在待測基板上後，再攜帶到檢測室進行檢測。
3. 若試片含有水分，一律先自行120℃熱烘烤 後，再攜帶到檢測室進行檢測。
4. 試片是弱磁性物質，請先告知，讓操作員判斷正確的處理方式。
使用STEM的注意事項
1. Sample需先溶乙醇 溶液經超波音振盪後，並置入銅網上，再帶到檢測室，檢測室不提供銅網與乙醇溶液。（sample的處理方法與使用TEM相同）
2. STEM的加速電壓最高可達30KV,因此檢測物厚度或管徑需小於40nm。
使用Sputter的注意事項
1. 金屬膜需鍍多厚，請事先告知。
2. 目前靶材僅有Pt金屬，若需鍍其他金屬膜請事先處理。
影像儲存注意事項
1. 僅可使用光碟燒錄機儲存資料，請自備光碟片。
2. 影像資料會儲存在電腦裡兩星期，如資料有問題請來電或E-mail告知。
收費辦法及標準：
由科技部貴重儀器資訊管理系統預約
1. 操作每三小時(未滿者亦以三小時計)，收燈絲維護費8000元 。（包含燈絲維護、液氮、消耗性器材等等）
2. 使用STEM請事先處理好Sample。（處理方法詳請閱讀取樣應注意事項）
3. 使用Sputter做表面前處理，每次收費 500元。（目前僅可鍍白金）
4. 使用EDS/MAPPING，每點收費200元
校內收費標準
1. 操作每三小時(未滿者亦以三小時計)，收燈絲維護費800元 。
2. 使用STEM請事先處理好Sample。（處理方法詳請閱讀注意事項）
3. 使用Sputter做表面前處理，每次收費 50元。
4. 使用EDS/MAPPING，每點收費200元
預約注意事項：
1. 預約時間每月25號下午1點
2. 開放一個計劃兩個時段預約預約者
3. 預約者請帶申請表格(http://nano.che.ccu.edu.tw/SEM/doc/4800.doc)及預約單，若沒有帶預約單及申請表格，視同沒有預約。
4. 預約者若預約但未來使用，第一次以警告處分再犯者停權一個月。
5. 預約者遲到一小時取消該時段服務,事先有事者請以電話聯絡。
6. FE-SEM 開放時間
上午 下午
週一 09：00至12：00(校內限制時段) 14：00至17：00(無限制時段)
週二 09：00至12：00(校內限制時段) 14：00至17：00(無限制時段)
週三 09：00至12：00(校內限制時段)
週四 09：00至12：00(無限制時段) 14：00至17：00(無限制時段)
週五 09：00至12：00(無限制時段) 14：00至17：00(無限制時段)
放置地點：
工程二館 化工系R206室