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SEM

FE-SEM  場發射掃描式電子顯微鏡【FE-SEM; Hitachi S4800-I】

技術人員:廖初本 同學 (05)2720411 轉 33499

E-mail:hello900617@gmail.com

指導教授:李元堯 博士 (05)2720411 轉 33403

E-mail:chmyyl@ccu.edu.tw

 SEM


儀器概述:
Hitachi S4800-I:

加速電壓:0.1~30 KV;放大倍率:30~800,000X;發射源:冷陰極電子槍;試片尺寸:100 mm diameter;二次電子解析度:1.0nm(at 15kV) or 2.0nm(at 1kV)。

服務項目:
1. SEI (Scanning Electron Image): 材料表面結構觀察,破斷面觀察,薄膜鍍層觀察。
2. 具STEM附加功能(穿透電子偵測器)。
3. 表面前處理:鍍金機(磁控式)目前可鍍靶材有白金。
4. 表面能階分析(EDS):特定位置表面材料成分電子能階光譜分析,用以判斷表面材料或污染的組成。(預計於2005年添購) 


影像儲存注意事項:

1.可使用USB隨身碟儲存資料,請自備。
2.可自行上傳個人雲端
3.影像資料會儲存在電腦裡兩星期,如資料有問題請來電或E-mail告知。

 

取樣應注事意項:

使用FT-SEM的注意事項
1. 高分子、生物試片和強磁性物質嚴禁進入FE-SEM腔體。
2. 粉體物質 需先經表面前處理後,黏牢在待測基板上後,再攜帶到檢測室進行檢測。
3. 若試片含有水分,一律先自行120℃熱烘烤 後,再攜帶到檢測室進行檢測。
4. 試片是弱磁性物質,請先告知,讓操作員判斷正確的處理方式。

使用STEM的注意事項
1. Sample需先溶乙醇 溶液經超波音振盪後,並置入銅網上,再帶到檢測室,檢測室不提供銅網與乙醇溶液。(sample的處理方法與使用TEM相同)
2. STEM的加速電壓最高可達30KV,因此檢測物厚度或管徑需小於40nm。

使用Sputter的注意事項
1. 金屬膜需鍍多厚,請事先告知。
2. 目前靶材僅有Pt金屬,若需鍍其他金屬膜請事先處理。

影像儲存注意事項
1. 僅可使用光碟燒錄機儲存資料,請自備光碟片。
2. 影像資料會儲存在電腦裡兩星期,如資料有問題請來電或E-mail告知。

收費辦法及標準:
由科技部貴重儀器資訊管理系統預約
1. 操作每三小時(未滿者亦以三小時計),收燈絲維護費8000元 。(包含燈絲維護、液氮、消耗性器材等等)
2. 使用STEM請事先處理好Sample。(處理方法詳請閱讀取樣應注意事項)
3. 使用Sputter做表面前處理,每次收費 500元。(目前僅可鍍白金)
4. 使用EDS/MAPPING,每點收費200元

校內收費標準
1. 操作每三小時(未滿者亦以三小時計),收燈絲維護費800元 。
2. 使用STEM請事先處理好Sample。(處理方法詳請閱讀注意事項)
3. 使用Sputter做表面前處理,每次收費 50元。
4. 使用EDS/MAPPING,每點收費200元

預約注意事項:
1. 預約時間每月25號下午1點
2. 開放一個計劃兩個時段預約預約者
3. 預約者請帶申請表格(http://nano.che.ccu.edu.tw/SEM/doc/4800.doc)及預約單,若沒有帶預約單及申請表格,視同沒有預約。
4. 預約者若預約但未來使用,第一次以警告處分再犯者停權一個月。
5. 預約者遲到一小時取消該時段服務,事先有事者請以電話聯絡。
6. FE-SEM 開放時間

   上午             下午
週一 09:00至12:00(校內限制時段) 14:00至17:00(無限制時段)
週二 09:00至12:00(校內限制時段) 14:00至17:00(無限制時段)
週三 09:00至12:00(校內限制時段)  
週四 09:00至12:00(無限制時段)  14:00至17:00(無限制時段)
週五 09:00至12:00(無限制時段)  14:00至17:00(無限制時段)

放置地點:
工程二館
化工系R206室

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